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硅光模塊是什么，簡(jiǎn)單的說(shuō)，就是利用硅光子技術(shù)在硅芯片上集成了光電裝換和傳輸模塊。是在硅基平臺(tái)上將微電子和光電子結(jié)合起來(lái)，構(gòu)成新的硅光器件。

分解硅光模塊：

硅光是以光子和電子為信息載體的硅基電子大規(guī)模集成技術(shù)。

光模塊的核心組件之激光器芯片。光模塊是由多種光學(xué)器件封裝而成，其中內(nèi)部組件中激光器芯片是比較關(guān)鍵的部分，占光模塊成本的60%，主要影響光模塊的傳輸距離。

目前100G光模塊已打開了硅光技術(shù)的大門，但其發(fā)展仍然面臨一些挑戰(zhàn)。

硅光子工藝流程：

多層刻蝕→P/N體注入→多晶硅耦合→P/N+型注入→金屬硅化物→鍺生長(zhǎng)→后段工藝→開窗。

超聲波清洗機(jī)清洗芯片：

超聲波清洗機(jī)是一種通過(guò)超聲波來(lái)清洗物品的設(shè)備，他的工作原理是：

1、生產(chǎn)超聲波：超聲波清洗機(jī)會(huì)通過(guò)超聲波發(fā)生器生成超聲波，超聲波是一種高頻聲波，頻率在人類聽覺(jué)范圍之外。

2、傳遞超聲波：超聲波發(fā)生器會(huì)把生成的超聲波通過(guò)超聲波傳送裝置傳遞到清洗槽中。

3、刺激清洗液：超聲波在清洗液中傳播時(shí)，會(huì)在液體中產(chǎn)生許多小的氣泡，這些氣泡會(huì)在一定周期內(nèi)破裂，產(chǎn)生許多的小氣泡沖擊波。

4、清洗物品：小氣泡沖擊波會(huì)對(duì)物品產(chǎn)生沖擊和摩擦，從而幫助清除物品上殘留的雜質(zhì)。

威固特VGT-603FTA自動(dòng)智能式超聲波清洗機(jī)是半導(dǎo)體行業(yè)清洗產(chǎn)品的選擇之一：

清洗設(shè)備共有6個(gè)功能槽，配置有自動(dòng)恒溫系統(tǒng)、觸摸屏系統(tǒng)、拋動(dòng)系統(tǒng)、超聲波清洗系統(tǒng)、噴淋系統(tǒng)、溢流系統(tǒng)、自動(dòng)智能式機(jī)械手系統(tǒng)、上下料系統(tǒng)等。設(shè)備采用水幕式噴淋系統(tǒng)、純水漂洗，為環(huán)保型清洗機(jī)。

清洗流程是自動(dòng)上料→1回用純水超聲+噴淋漂洗（拋動(dòng)）→2回用純水超聲（拋動(dòng)）→3純水超聲（拋動(dòng)）→4純水超聲（拋動(dòng)）→5DI純水超聲（拋動(dòng)）80K→6DI純水超聲（拋動(dòng)）120K→手動(dòng)下料。

VGT-603FTA自動(dòng)智能式超聲波清洗機(jī)配的純水漂洗槽對(duì)芯片高要求的清洗，占有一定的優(yōu)勢(shì)。結(jié)構(gòu)是每槽設(shè)四面溢流口，溢水槽寬35mm。各槽底部設(shè)排液閥，槽外設(shè)置拋動(dòng)。

VGT-603FTA自動(dòng)智能式超聲波清洗機(jī)噴淋系統(tǒng)能清洗到芯片的每個(gè)平面與角落：

1、在槽體的左右兩側(cè)、前后兩面及頂部各設(shè)置二把噴淋系統(tǒng)，噴淋系統(tǒng)直接作用于工件。

2、市水或其他水源由管路亦可直接進(jìn)入噴淋槽儲(chǔ)液箱（可轉(zhuǎn)換裝置）。

3、每把噴淋系統(tǒng)上安裝6個(gè)不銹鋼噴嘴。

4、噴淋系統(tǒng)由噴淋管和噴嘴組成。

5、噴淋為“水幕式”噴淋，效果更好、清洗更徹底。

6、配有儲(chǔ)液箱系統(tǒng)。

7、噴淋系統(tǒng)，第一槽配備，其他各槽無(wú)。

8、噴淋泵為“南方”不銹鋼水泵。

9、噴淋泵與噴淋管相連，噴淋泵工作時(shí)產(chǎn)生壓力作用于工件，形成完整的噴淋系統(tǒng)。

10、配置有液位安全控制系統(tǒng)，當(dāng)液位低時(shí)，噴淋泵不工作。

11、噴淋泵前裝有球閥，調(diào)節(jié)水量。

VGT-603FTA自動(dòng)智能式超聲波清洗機(jī)機(jī)械手機(jī)構(gòu)：

1、工件提升及橫移機(jī)構(gòu)，由自動(dòng)智能式機(jī)械手完成。

2、提升機(jī)構(gòu)是由電機(jī)帶動(dòng)鏈條傳送實(shí)現(xiàn)工件的提升下降運(yùn)動(dòng)。

3、橫移機(jī)構(gòu)的電機(jī)采用“松下”伺服馬達(dá)，速度變頻可調(diào)。

4、為保證清洗工件及清洗液的潔凈，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)不位于洗凈工件的上部，可避免輸送時(shí)金屬磨耗粉、潤(rùn)滑油等掉落。

5、后部傳動(dòng)機(jī)構(gòu)與前部溶劑清洗區(qū)域用隔板分開，防止后部傳動(dòng)粉塵進(jìn)入前部。